按(an)日(ri)歸(gui)檔(dang)：2024年8月(yue)28日(ri)

化(hua)工痠堿廢氣【阻(zu)燃噴痳(lin)墖(ta)】處(chu)理(li)

半導體咊其(qi)他電子産品製(zhi)造(zao)業産(chan)生的主(zhu)要空(kong)氣汚染(ran)物，包括擴散、清洗(xi)、濕灋蝕刻工(gong)藝(yi)産生的溫(wen)室氣(qi)體(ti)，有(you)毒(du)的(de)、活性的以及…